光電純水設備的光電產品清洗超純水設行設計

　　光電純水設備的光電產品清洗超純水設備,在設備設計上，采用成熟、可靠、先進、自動化程度高的兩級RO＋EDI＋精混床除鹽水處理工藝，確保處理后的超純水水質出水電阻率達到18.2MΩ.cm。關鍵設備及材料均采用國際主流先進可靠產品，采用PLC＋觸摸屏控制，全套系統(tǒng)自動化程度高，系統(tǒng)穩(wěn)定性高。大大節(jié)省人力成本和維護成本，水利用率高，運行可靠，經濟合理。使設備與其它同類產品相比較，具有更高的性價比和設備可靠性。

光電行業(yè)用超純水設備對水質的要求：新興的光電材料生產、加工、清洗；LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質燈管顯像管、微電子工業(yè)、FPC/PCB線路板、電路板、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產品的簡易性、自動化程度、生產的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴格的要求。